本季度开始,全球三大内存颗粒生产商将大幅度提高0.11微米制程生产工艺的产能,随着8月的到来,目前三大内存厂商——三星(Samsung)、美光(Micron)、英飞凌(Infineon)等国际大厂,标准型DRAM采0.11微米以下制程比重均达到7成以上。
内存产业的领头羊,韩国三星电子公司的制程技术已经遥遥领先竞争对手半年以上,在2004年初三星电子就开始将制程转换至0.11微米,目前三星所有产能当中,有48%的产出来自于0.11微米制程,49%来自于0.10微米制程,即目前三星电子的内存颗粒几乎全部产自于0.11微米以下制程。此外,三星也开始对90纳米制程进行试验性量产。
另外两家内存大厂——美光和英飞凌目前在0.11微米制程的良品率均已大幅提升,产量也大幅度上升。其中美光在标准型DRAM内存生产上,约有70%的产能是0.11微米制程,而英飞凌也有约70%产能是采0.11微米制程,英飞凌预计到年底时0.11微米制程产出比重将提升至80%。